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勻膠顯影機

勻膠顯影機

簡(jiǎn)要描述:
SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實(shí)現價(jià)值百萬(wàn)美元設備(track)的上才可能達到穩定性和均勻性。

更新時(shí)間:2023-03-06

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廠(chǎng)商性質(zhì):代理商

生產(chǎn)地址:

SC200-DE勻膠顯影機介紹   

SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實(shí)現價(jià)值百萬(wàn)美元設備(track)的上才可能達到穩定性和均勻性。   不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀(guān);工業(yè)級別400瓦伺服電機系統,采用與track設備相同設計和程序,使您的工藝更具有實(shí)際應用意義;同類(lèi)產(chǎn)品中的zui大達到50000RPM/S的旋轉加速度,確保勻膠和顯影的穩定性和*的可重復性。 主要性能指標: 主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學(xué)腐蝕易清潔) 旋涂程序:zui多可存100組程序,每組100步,每個(gè)步驟可精確到0.1秒 轉動(dòng)速度:0-5,000rpm(更高速可選) 旋涂加速度:0-10,000rpm/sec(空載) 馬達旋涂轉速穩定性能誤差 < ±1rpm 轉速調節精度<1rpm,重復性< 1rpm 工藝時(shí)間設定: 0-3,000 sec/step,時(shí)間設置精度:0.1sec 支持wafer尺寸1cm-300mm(12“圓晶) 標準配置兩路噴液系統(顯影液和去離子水) 產(chǎn)品特性?xún)?yōu)點(diǎn): 主機在SC200-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果 可實(shí)現zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進(jìn)行氮氣吹干 控制器可實(shí)現程序自動(dòng)控制噴液或進(jìn)行手動(dòng)操作,使用更加方便 顯影系統可進(jìn)行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進(jìn)行配置 提供客戶(hù)定制化的顯影系統配置和工裝設計 高可靠性和重復性,高轉速精度和更高轉速可選 可添加去邊膠和背膠清洗功能

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